A Canon anunciou o lançamento do FPA-3030i6, um stepper i-line para litografia de semicondutores, projetado para processar wafers com até 8 polegadas de diâmetro.
Este novo sistema introduz uma lente de projeção inovadora, desenvolvida com foco em alta transmitância e durabilidade, que reduz a aberração em processos de alta dose de exposição e aumenta a produtividade ao diminuir o tempo de exposição necessário.
Segundo a Canon, a lente, fabricada com um material de vidro de alta transmitância, permite reduzir as aberrações de exposição em mais de 50% face a modelos anteriores, mantendo a fidelidade do padrão. A melhoria na transmitância eleva a intensidade da exposição, aumentando a produtividade para 130 wafers por hora, em comparação com os 123 wafers/hora dos steppers anteriores.
Com uma faixa de abertura numérica (AN) ampliada de 0.30 a 0.63, o sistema permite aos utilizadores selecionar a AN ideal para cada camada de dispositivo. Além disso, a lente durável mantém a produtividade durante o tempo de vida útil do equipamento.
O FPA-3030i6 inclui opções para substratos especiais e dispositivos semicondutores emergentes, como dispositivos de alta potência e eficiência. Suporta uma gama de materiais, incluindo silício, safira, carboneto de silício, nitreto de gálio e arseneto de gálio, além de oferecer opções de alimentação para wafers entre 2 e 8 polegadas de diâmetro e diferentes tipos de substratos.
